温战华
【姓名】 温战华
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 化合物半导体ZnO薄膜的研究
【发表文献关键词】 掺杂,(La,Tb)NbO4,LaNbO4,双晶衍射,金属有机物,光致发光谱,荧光特征,X射线,化学气相沉积,氧化锌,ZnO薄膜,退火温度,发光性能,ZnO2,描曲线,近紫外,FWHM,常压MOCVD...
【工作单位】 南昌大学
【曾工作单位】 南昌大学;
【所在地域】 江西南昌
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[1]陈玉凤,温战华,王立,戴江南,方文卿,江风益.退火对常压MOCVD法生长的高结晶性能ZnO薄膜发光特性的影响[J]发光学报.2005,(05)
[2]温战华,王立,方文卿,蒲勇,罗小平,郑畅达,戴江南,江风益.退火温度对ZnO薄膜结构和发光性能的影响[J]半导体学报.2005,(03)
[3]张志力,李永绣,唐群,黄惠珍,温战华,周浪.(La,Tb)NbO_4的合成与发光特性[J]稀土.2002,(04)
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