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胡延年
【姓名】
胡延年
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;自动化技术;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
采样,难熔金属,串级调速,硅化物,RG-MOSFET,微机控制,逆变器,场板,磁控溅射,晶阐管,I-V特性,硅化反应,保护环,穿通型,沟道,电流特性,薄膜特性,时间常数,击穿电压,耗尽层宽度,硬件,定...
【工作单位】
辽宁大学
【曾工作单位】
辽宁大学;
【所在地域】
辽宁沈阳
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学术成果产出明细表
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共找到6篇
[1]孙立红;胡延年;.
湿度变送器信号调理电路的设计
[J]辽宁大学学报(自然科学版).2008,(04)
[2]徐伟,胡延年,庄雅娜.
微机控制的串级调速系统
[J]天津冶金.1997,(04)
[3]胡延年.
难熔金属及硅化物薄膜特性研究
[J]半导体情报.1998,(01)
[4]胡延年.
VDMOS结构击穿电压的设计与分析
[J]辽宁大学学报(自然科学版).1998,(02)
[5]徐伟,胡延年.
难熔金属及硅化物薄膜制备技术研究
[J]天津理工学院学报.1998,(04)
[6]石广元,胡延年,王中文.
RG-MOSFET的I_(DS)特性分析
[J]微处理机.1998,(02)
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