张仿清
【姓名】 张仿清
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 反应溅射,非晶锗,超晶格,a－Si,射频功率,Si衬底,织构,薄膜特性,掺杂效率,射频,金刚石膜,淀积速率,非晶态半导体,织构生长,缺陷态,微波等离子体,金刚石,立方氮化硼,化学气相沉积,态密度,界面...
【工作单位】 兰州大学
【曾工作单位】 兰州大学;
【所在地域】 兰州
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[1]张文军,张仿清,胡博,韩立,陈光华.用微波等离子体化学气相沉积(MWCVD)法在(100)Si衬底上沉积织构金刚石膜[J]科学通报.1994,(23)
[2]王辉耀，王印月，张仿清.射频功率对反应溅射淀积的a－Ge：H薄膜特性的影响[J]无机材料学报.1994,(02)
[3]陈光华，郭永平，姚江宏，宋志忠，张仿清.a－Si：H／a－SiC＿x：H超晶格的界面特性[J]物理学报.1994,(11)
[4]张仿清，谢二庆，杨斌，才永明，陈光华.硼掺杂半导体金刚石薄膜的合成与红外吸收特性[J]半导体学报.1995,(06)
[5]张仿清，张文军，胡博，谢二庆，陈光华.硼掺杂及未掺杂金刚石薄膜的电学和光电导特性[J]半导体学报.1995,(10)
[6]陈光华,郭永平,张仿清,宋志忠.立方氮化硼薄膜的织构生长[J]科学通报.1995,(06)
[7]宋志忠，徐进章，张仿清，陈光华.a－Si：H和a－SiC：H薄膜掺杂效率的研究[J]兰州大学学报.1995,(01)
[8]宋志忠，郭永平，张仿清，陈光华.薄膜物理乃其应用讲座第四讲立方氮化硼薄膜的研究现状及其应用前景[J]物理.1995,(05)
[9]张文军,胡博,韩立,张仿清,陈光华.Deposition of textured diamond films on Si (100) substrates via microwave plasma chemical vapor deposition[J]Chinese Science Bulletin.1995,(09)
[10]崔敬忠,彭军,张兴旺,陈光华,张仿清.射频溅射制备α－Ge／SiO2多层膜[J]兰州大学学报.1996,(02)
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中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]张仿清;谢二庆;扬斌;吴全忠;季亚英;张南屏;杨映虎;陈光华;蒋翔六;.硼掺杂多晶金刚石薄膜的电学特性[A].首届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1992-10-26
[2]张文军;吴全忠;张仿清;陈光华;.化学汽相淀积(CVD)法合成金刚石薄膜的ESR研究[A].首届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1992-10-26
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