郭华林
【姓名】 郭华林
【职称】
【研究领域】 数学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 华林,隙态密度,场效应,a-Si,H膜,弱反型,测量温度,场效应管,a-Si∶H,带隙,原理,国内外,测量结果,强反型,原子,能级位置,带隙材料,兰州大学,态密度,光学带隙,隙态,
【工作单位】 兰州大学
【曾工作单位】 兰州大学;
【所在地域】
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[1]王印月,张仿清,郭华林,陈光华.用场效应法研究a-Si_xC_(1-x):H薄膜的隙态密度[J]科学通报.1984,(08)
[2]王印月,张仿清,郭华林,陈光华.MEASUREMENTS OF DENSITY OF LOCALIZED STATES IN a-Si_xC_(1-x): H FILMS USING THE FIELD EFFECT METHOD[J]Science Bulletin.1985,(02)
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