崔艺涛
【姓名】 崔艺涛
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Ni-Zn铁氧体,Zn铁氧体,溅射,矫顽力Hc,薄膜磁性,饱和磁化强度,热处理温度,Zn含量,磁性,氧分压,薄膜成分,薄膜结构,尖晶石结构,磁化强度,射频溅射方法,底层,溅射法,不同成分,制备条件,晶...
【工作单位】 兰州大学
【曾工作单位】 兰州大学;
【所在地域】
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[1]高建华,崔艺涛,杨正.Ni-Zn铁氧体薄膜的结构和磁性[J]物理学报.2004,(10)
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