孙乔玉
【姓名】 孙乔玉
【职称】
【研究领域】 化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金属指示剂,铬变酸,电化学行为,溶剂影响,羟基羧酸,自组装膜,界面微分电容分析,有机嫁接单分子膜,分光法,配位作用,单分子膜,多巴胺,微分电容,有机单分子膜,配位剂,硅表面,嫁接,硅,综述,抗坏血酸,...
【工作单位】 兰州大学
【曾工作单位】 兰州大学;
【所在地域】 兰州
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[1]孙乔玉,Catherine Henry de Villeneuve,力虎林,Philippe A llongue.硅表面有机单分子膜的新表征方法──界面微分电容测量法[J]高等学校化学学报.2003,(01)
[2]孙乔玉,黄吉儿,C.Henry de Villeneuve,力虎林,P.Allongue.醇类在Si-H表面形成单分子膜的特性[J]应用化学.2003,(06)
[3]孙乔玉,张校刚,李晓红,力虎林.溶剂对自组装单分子膜电化学行为的影响[J]高等学校化学学报.2001,(10)
[4]孙乔玉,黄吉儿,Catherine Henry de Villeneuveb,力虎林,hilippe Allongueb.硅表面嫁接有机单分子膜的研究近况[J]应用化学.2002,(06)
[5]孙乔玉,Catherine Henry de Villeneuve,力虎林,Philippe Allongueb.界面微分电容法单晶硅表面单分子膜质量的检测[J]应用化学.2002,(06)
[6]邱陵,贾东方,孙乔玉.金属指示剂-紫外分光法研究Ti(Ⅳ)-羧酸、羟基羧酸的配位作用[J]高等学校化学学报.1986,(02)
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