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唐培松
【姓名】
唐培松
【职称】
【研究领域】
金属学及金属工艺;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
微弧氧化,陶瓷膜,电流密度,氧化膜,微弧,铝合金,物理性能,基体材料,陶瓷膜层,硬度,膜层厚度,层厚度,致密层,疏松层,氧化时间,α相,氧化法,γ相,氧化铝水合物,火花放电,脉冲氧化,阳极火花沉积,氧...
【工作单位】
昆明理工大学
【曾工作单位】
昆明理工大学;
【所在地域】
云南昆明
学术成果产出统计表
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到2篇
[1]贺子凯,唐培松.
电流密度对微弧氧化膜层厚度和硬度的影响
[J]表面技术.2003,(03)
[2]贺子凯,唐培松.
不同基体材料微弧氧化生成陶瓷膜的研究
[J]材料保护.2002,(04)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库
共找到1篇
[1]唐培松.
铝合金表面微弧氧化工艺条件研究
[D].昆明理工大学.2001
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