廖乐祥
【姓名】 廖乐祥
【职称】
【研究领域】 物理学;自动化技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 折射率,含氢气体,多层薄膜,氢敏感,电容,干涉条纹,氢原子,多层膜,吸附,钯栅,透明薄膜,特性测试,敏感性,光干涉原理,介质膜,内表面,气休,透明膜,制作工艺,工作原理,固定电荷,平带电压,二氧化硅,...
【工作单位】 江西大学
【曾工作单位】 江西大学;
【所在地域】
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[1]钟仕科,廖乐祥,付敏恭.氢敏感钯栅MOS电容[J]南昌大学学报(理科版).1983,(04)
[2]钟仕科,廖乐祥.硅芯片多层薄膜折射率的测量[J]南昌大学学报(理科版).1984,(03)
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