全俊杰
【姓名】 全俊杰
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Ni多层膜,电阻率,多层膜,位错密度,磁控溅射,单层膜,层间界面,电阻,总厚度,溅射,散射效应,块状体,膜厚度,显微硬度,磁控,位错,X射线,衍射线形,调制波长,界面散射,
【工作单位】 吉林大学
【曾工作单位】 吉林大学;
【所在地域】 长春
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[1]单凤兰,全俊杰,王煜明.Cu/Ni多层膜的电阻与位错[J]吉林大学自然科学学报.1998,(03)
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