于狭升
【姓名】 于狭升
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 射频磁控溅射,CN_x膜,退火温度,电子场发射,CNx膜,X射线光电子能谱,化学键合,键合结构,真空退火,磁控溅射沉积,不同温度,非晶碳,表征,团簇,性质,场发射特性,sp3键,碳原子,材料科学,氮原...
【工作单位】 吉林大学
【曾工作单位】 吉林大学;
【所在地域】 长春
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[1]李哲奎,李俊杰,金曾孙,吕宪义,白晓明,郑冰,田宏伟,于狭升.在不同退火温度下射频磁控溅射CN_x膜的电子场发射性质[J]吉林大学学报(理学版).2005,(02)
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