吕宪义
【姓名】 吕宪义
【职称】 高级工程师;
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;材料科学;
【研究方向】 金刚石膜及相关薄膜材料的研究
【发表文献关键词】 微弧氧化,N离子注入,非晶碳膜,陶瓷膜,铝合金,电学参量,复合膜,高氢,气浓度,碳活度,键合结构,碳纳米管,EA-CVD,金刚石厚膜,品质和膜厚均匀性,热导率,原子氢,定向生长,磨耗比,微弧氧化膜,电...
【工作单位】 吉林大学
【曾工作单位】 吉林大学;
【所在地域】 长春
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[7]徐跃;张彤;李柳暗;李红东;吕宪义;金曾孙;.自支撑硼掺杂金刚石膜残余应力和微观应力的XRD分析[J]材料研究学报.2009,(03)
[8]陈淑霞;顾长志;李海钧;吕宪义;金曾孙;.硅尖与高质量碳纳米管混合物的场发射性能[J]真空电子技术.2006,(01)
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[4]王佳宇;吕宪义;孙越;白亦真;金曾孙;邹广田;.金刚石厚膜过渡层研究[A].第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1998-10-13
[5]王启亮;吕宪义;成绍恒;李红东;邹广田;.高速生长CVD金刚石单晶及应用[A].2011中国材料研讨会论文摘要集.2011-05-17
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