高山
【姓名】 高山
【职称】
【研究领域】 企业经济;宏观经济管理与可持续发展;民商法;
【研究方向】
【发表文献关键词】 气敏元件,表面修饰,模式,铜配合物,敏度,Schiff碱,大企业集团,决策,元件,咪唑,元件特性,气敏,晶体结构,风险效用,NO_3,配合物,风险投资,表面处理,元件灵敏度,制备化学,效用,决策模型,...
【工作单位】 吉林大学
【曾工作单位】 吉林大学;
【所在地域】 长春
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[2]高山;.文化产业发展对我国经济发展作用分析[J]现代交际.2016,(20)
[3]蔡莉,熊文,高山.大企业集团风险投资的模式选择及风险效用决策模型分析[J]吉林大学学报(工学版).2003,(03)
[4]高山,施展,华佳,冯守华,徐如人,刘世雄,霍丽华,陈鹏刚.配合物Cu(C_(14)H_9NO_3)(C_3H_4N_2)的合成、晶体结构及性质研究[J]高等学校化学学报.2000,(02)
[5]全宝富，卢革宇，孙良彦，董慧燕，高山.表面处理对气敏元件特性的影响[J]传感器技术.1995,(03)
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