|
[1]张源涛,李万程,王金忠,杨晓天,马艳,殷宗友,杜国同.射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性[J]发光学报.2003,(01)
|
|
[2]王金忠,杜国同,马艳,赵佰军,杨晓天,张源涛,刘大力,李万程,杨洪军,杨树人,吴爱国,李壮.蓝宝石R面上ZnO薄膜的NH_3掺杂研究[J]发光学报.2003,(04)
|
|
[3]赵佰军,杜国同,王金忠,杨洪军,张源涛,杨小天,马艳,刘博阳,杨天鹏,刘大力.声表面波器件用〈110〉取向ZnO薄膜的MOCVD生长[J]高等学校化学学报.2003,(10)
|
|
[4]刘大力,杜国同,王金忠,张源涛,张景林,马艳,杨晓天,赵佰军,杨洪军,刘博阳,杨树人.ZnO薄膜的掺杂特性[J]发光学报.2004,(02)
|
|
[5]常玉春,杨晓天,王金忠,王新强,刘博阳,刘大力,胡礼忠,杜国同.等离子MOCVD系统生长ZnO薄膜掺N_2和掺NH_3特性比较[J]发光学报.2004,(02)
|
|
[6]王新强,杜国同,姜秀英,王金忠,杨树人.ZnO薄膜的研究进展[J]半导体光电.2000,(04)
|
|
[7]王金忠,闫玮,王新强,殷景志,姜秀英,杨树人,杜国同,高鼎三,R.P.H.Chang.XRD对ZnO薄膜生长条件和退火工艺的优化[J]半导体光电.2001,(03)
|
|
[8]王金忠,王新强,王剑刚,姜秀英,杨树人,杜国同,高鼎三,LIU Xiang,CAO Hui,XU Junying,CHANG R P H.等离子体辅助MOCVD生长的ZnO薄膜退火改性研究[J]功能材料.2001,(05)
|
|
[9]王金忠,吴家琨,王新强,杜国同,姜绣英,孙良彦.高选择性氢气和液化气元件的研制[J]传感技术学报.2001,(01)
|
|
[10]王金忠,吴家琨,王新强,孙良彦,杜国同,李康.广谱性CO气敏元件的研制[J]传感技术学报.2002,(02)
|
|
更多
|