曹培江
【姓名】 曹培江
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 N离子注入,成键结构,CNx,热阴极DC-PCVD,CN_x薄膜,化学结合状态,sp~3C—N键,金刚石膜的生长特性,射频磁控溅射,金刚石,CN_x,金刚石膜,射频磁控,化学键合,衬底温度,辉光放电,...
【工作单位】 吉林大学
【曾工作单位】 吉林大学;
【所在地域】 长春
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[1]李俊杰,曹培江,郑伟涛,吕宪义,卞海蛟,金曾孙.轰击离子能量对CN_x薄膜中sp~3型C—N键含量的影响[J]高等学校化学学报.2003,(05)
[2]曹培江,姜志刚,李俊杰,金曾孙,王欣,郑伟涛,牟宗信,董闯,李哲奎.N离子注入金刚石膜方法合成的CN_x膜的成键结构[J]吉林大学自然科学学报.2001,(02)
[3]曹培江,姜志刚,李俊杰,金曾孙,王欣,郑伟涛,李哲奎.射频磁控溅射CN_x薄膜的结构与衬底温度关系的研究[J]高等学校化学学报.2002,(02)
[4]姜志刚,金曾孙,白亦真,曹培江,张露,杨广亮,李俊杰,吕宪义.甲醇在热阴极DC-PCVD方法制备金刚石膜过程中的作用[J]高等学校化学学报.2002,(09)
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