傅则忠
【姓名】 傅则忠
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅外延,SiCl_4,氢还原,多晶硅,外延生长,外延片,常压,硅迁移,SICI,亮片,石墨基座,外延,包硅,雾区,面质量,生长温度,硅沉积,温差,混合柱,高温区,
【工作单位】 吉林大学
【曾工作单位】 吉林大学;
【所在地域】
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[1]杨树人,刘明登,许新民,傅则忠,李玉珍.SiCl_4氢还原低压硅外延生长的碳沾污[J]半导体技术.1986,(01)
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