朱大奇
【姓名】 朱大奇
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 气敏特性,导电薄膜,汽相沉积,电子密度,碰撞电离,沉积速率,半导体薄膜,不同温度,薄膜电阻,响应时间,灵敏度,PCVD,气敏性,等离子体化学气相沉积(PCVD),掺杂透明导电膜,温阻特性,电学性能,辉...
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]陈俊芳;刘祖黎;朱大奇;姚凯伦;.用PCVD制备的SnO_2导电薄膜及其对NO_X的气敏特性[J]化学传感器.1992,(03)
[2]朱大奇,刘祖黎,陈俊芳.平行圆板型PCVD质量转换过程动力学研究[J]华中理工大学学报.1992,(05)
[3]刘祖黎,朱大奇,宋文栋,陈俊芳.管式等离子体化学气相沉积质量转换动力过程的研究[J]物理学报.1992,(04)
[4]刘祖黎,陈俊芳,朱大奇,刘大明.电子密度对PCVD制备SnO_2导电薄膜的影响[J]华中理工大学学报.1993,(02)
[5]陈俊芳,刘祖黎,朱大奇.SnO_2:Sb薄膜型材料的气敏性研究[J]华中理工大学学报.1993,(06)
[6]陈俊芳,刘祖黎,魏合林,朱大奇.PCVD制备SnO_2:Sb薄膜及其电学性能分析[J]华中理工大学学报.1993,(S1)
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