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缪向水
【姓名】
缪向水
【职称】
【研究领域】
物理学;工业通用技术及设备;计算机硬件技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】
AlSiN薄膜,磁控,AlN薄膜,溅射工艺,磁转矩,光学性,溅射,接口采样,磁光记录薄膜,薄膜厚度,溅射薄膜,氩气压,薄膜磁畴,厚度均匀性,矫顽力,克尔角,软件设计,磁光薄膜,制备工艺,高感度,溅射系...
【工作单位】
华中理工大学
【曾工作单位】
华中理工大学;
【所在地域】
武汉
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中国期刊全文数据库
共找到21篇
[1]缪向水,李佐宜,胡用时,林更琪.
磁光盘多层结构AIN和AlSiN薄膜材料研究
[J]功能材料.1994,(01)
[2]胡用时,缪向水,林更琪,李佐宜.
掺入轻稀土元素对薄膜的磁光克尔效应的增强
[J]华中理工大学学报.1994,(S1)
[3]缪向水,李佐宜.
磁光盘的介质膜材料AlN、AlSiN薄膜的电子显微分析
[J]无机材料学报.1994,(02)
[4]缪向水,胡用时,李佐宜,杨继生,华蓉.
无触点磁敏电位器自动测试仪研制
[J]传感技术学报.1994,(02)
[5]胡用时,缪向水,李佐宜.
RE-TM磁光记录薄膜的磁场电效应研究
[J]功能材料.1995,(03)
[6]缪向水,胡用时,林更琪,李佐宜.
AlN和AlSiN薄膜的制备工艺及其光学特性
[J]华中理工大学学报.1995,(S1)
[7]黄龙波,李佐宜,刘兴阶,缪向水,卢德新.
铁电(Pb_(0.925)La_(0.075))(Zr_(0.65)Ti_(0.35))_(0.981)O_3薄膜的疲劳特性研究
[J]科学通报.1995,(05)
[8]崔瑛,李佐宜,刘兴阶,缪向水,刘卫忠,黄煜梅.
钡铁氧体垂直磁化薄膜的磁光特性研究
[J]磁记录材料.1995,(03)
[9]缪向水,李佐宜,胡用时,林更琪.
磁光盘抗恶劣环境实验研究
[J]应用科学学报.1995,(02)
[10]胡作启,李佐宜,卢正启,刘卫忠,缪向水,林更棋,王家赋.
界面对TbFeCo薄膜磁畴的形成和移动的影响
[J]功能材料.1996,(03)
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胡用时
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林更琪
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10
李佐宜
华中理工大学
18
杨继生
华中理工大学
1
华蓉
华中理工大学
1
刘兴阶
华中理工大学
4
卢德新
华中理工大学
1
黄龙波
华中理工大学
1
崔瑛
华中理工大学
2
黄煜梅
华中理工大学
2
刘卫忠
华中理工大学
8
卢正启
华中理工大学
4
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该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
王渭源
中国科学院上海冶金研究所
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朱文玉
中国科学院上海冶金研究所
1
朱蔚雯
中国科学院上海冶金研究所
1
刘公强
上海交通大学
1
吴蓓
上海交通大学
1
胡用时
华中理工大学
5
张德明
华中理工大学
2
郑远开
华中理工大学
2
林更琪
华中理工大学
3
李佐宜
华中理工大学
6
刘卫忠
华中理工大学
1
胡用时
华中工学院
2
更多
引用过该学者文献的学者
(学者,学者单位,篇数)
李佐宜
华中理工大学
1
徐均琪
西安工业学院
1
曹广军
华中理工大学
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周文利
华中理工大学
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胡用时
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谢基凡
华中理工大学
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吴正元
华中理工大学
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于军
华中理工大学
1
蔡长龙
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刘殊松
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干煜军
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