刘凤堂
【姓名】 刘凤堂
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 靶动力学,TiN薄膜,反应溅射,中性粒子,溅射,溅射制备,靶中毒,反应粒子,电荷交换,阴极鞘层,产额,靶面,固体电子学,鞘层,溅射产物,粒子,二次电子发射,离子能量,等离子体,薄膜生长,
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]王敬义,王颖,陈忠财,胡慧娟,李振香,王宇,刘凤堂,张丽娜.反应溅射制备TiN薄膜的靶动力学研究[J]微细加工技术.1997,(01)
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