胡煜
【姓名】 胡煜
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;一般化学工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 遗传算法,椭偏仪测量,磁光记录薄膜,直接重写,偏振特性,椭圆偏振测量,光调制,补偿温度,平均场理论,磁光多层膜,饱和磁化强度,方位角,椭偏法,入射角,电子科学与技术,居里温度,克尔角,多层膜,FeCo...
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]胡煜,李佐宜,胡作启,邱进军.(Dy,Gd)FeCo磁光记录薄膜温度特性的计算与分析[J]功能材料.2000,(06)
[2]王可,蔡长波,李佐宜,谭立国,王翔,胡煜.磁光记录薄膜的偏振特性分析[J]磁性材料及器件.2000,(03)
[3]王可,李佐宜,胡作启,林更琪,熊锐,杨晓非,李震,王翔,易开军,朱全庆,胡煜.光调制直接重写磁光多层膜的制备及其性能研究[J]信息记录材料.2000,(Z1)
[4]彭子龙,李佐宜,胡煜,谭立国,杨晓非.遗传算法在椭圆偏振测量中的应用[J]光学技术.2000,(03)
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