郑远开
【姓名】 郑远开
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 AgCo颗粒膜,磁电阻效应,磁控射频,磁性旋转编码器,磁阻磁头,巨磁电阻效应,溅射,计算机辅助测试,A/D转换,电阻效应,磁控射频溅射,磁电阻,巨磁电阻效,湿敏,多层膜,巨磁,溅射功率,多孔硅(PS)...
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]邱进军,莫赞,李佐宜,郑远开,吴丹丹,彭子龙,熊锐,胡作启,莫少坡.淀积磁场对NiO/Ni_(81)Fe_(19)双层膜特性的影响[J]材料研究学报.1999,(04)
[2]刘刚,于军,郑远开,周文利.PS湿敏二极管特性研究[J]华中理工大学学报.1999,(01)
[3]郑远开,李佐宜,于军,谢基凡.Cu层厚度对NiFe/Cu/Co的巨磁电阻效应影响[J]华中理工大学学报.1999,(01)
[4]高俊雄,于军,周文利,郑远开.双极型晶体管GP模型参数自动提取系统[J]华中理工大学学报.1999,(06)
[5]于军,董晓敏,赵建洪,周文利,谢基凡,郑远开,刘刚.MF(I)S结构设计对硅基铁电薄膜系统C-V特性的影响[J]无机材料学报.1999,(04)
[6]邱进军,李佐宜,郑远开,李震,林更琪,熊锐,胡作启,卢志红.交换耦合双层膜NiO/Ni_(81)Fe_(19)的基片温度效应研究[J]无机材料学报.1999,(06)
[7]郑远开,李春富,刘卫忠,黄煜梅,李佐宜.NiFeNb薄膜的磁特性及磁阻效应研究[J]功能材料.1995,(05)
[8]胡用时,郑远开,张德明.薄膜磁阻效应自动测试方法的研究[J]磁性材料及器件.1995,(01)
[9]郑远开,李佐宜,胡用时,张德明.程控超低频扫场电源的研制[J]电测与仪表.1996,(02)
[10]任志远,李佐宜,郑远开,刘卫忠,胡用时.高精度磁鼓编码器研制[J]传感技术学报.1996,(04)
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