吴丹丹
【姓名】 吴丹丹
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;一般化学工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 淀积磁场,交换耦合场,磁阻效应,矫顽力,铁磁层,自旋阀,双层膜,多层膜,易轴,交换耦合作用,薄膜厚度,磁滞回线,射频磁控,偏置型自旋阀,平均自由程,钉扎,矩形度,厚度增加,临界厚度,溅射方法,平行排列...
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/2 1 2 1 0 129
中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]邱进军,莫赞,李佐宜,郑远开,吴丹丹,彭子龙,熊锐,胡作启,莫少坡.淀积磁场对NiO/Ni_(81)Fe_(19)双层膜特性的影响[J]材料研究学报.1999,(04)
[2]吴丹丹,李佐宜,邱进军,卢志红.薄膜厚度对NiO/NiFe/Cu/NiFe自旋阀多层膜的磁阻效应的影响[J]磁记录材料.1999,(01)
更多