王敬义
【姓名】 王敬义
【职称】 教授;
【研究领域】 无线电电子学;电力工业;工业通用技术及设备;
【研究方向】 薄膜生长及半导体致冷研究
【发表文献关键词】 靶动力学,冷等离子体,TiN薄膜,廉价硅材料,纯化效应,冶金效应,反应溅射,反应粒子,提纯速率,输运方程,中性粒子,溅射,溅射制备,靶中毒,等离子体冶金,提纯效应,提纯物,提纯效果,阴极温度,材料纯化...
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]陶甫廷,王敬义,王宇,冯信华,罗文广,张巍,陈文辉.Si-Ge粉粒在冷等离子体中沉降的提纯效应分析[J]半导体技术.2000,(03)
[2]王敬义,王宇,尹盛,何笑明,冯信华,肖成章.冷等离子体冶金效应研究[J]太阳能学报.2000,(01)
[3]尹盛,冯信华,何笑明,陈丽,王敬义.冷等离子体提纯硅粉薄层的实验研究[J]太阳能学报.2000,(02)
[4]陶甫廷,王敬义,冯信华,陶臻宇,张巍,陈文辉,苏庆平,何笑明.冷等离子体对硅-锗纯化的实验研究[J]广西工学院学报.2000,(04)
[5]陶甫廷,王敬义,冯信华,罗文广,张巍,陈文辉,赵宁,尹盛.粉粒在等离子体中沉降的运动学分析[J]稀有金属材料与工程.2001,(01)
[6]王敬义,王宇,陶甫廷,陈文辉,张巍,冯信华,陶臻宇,尹盛.提高粉粒沉降过程中等离子体纯化能力的研究[J]稀有金属材料与工程.2001,(04)
[7]尹盛,何笑明,冯信华,赵宁,陈丽,王敬义.冷等离子体提纯硅的速率模型分析[J]半导体技术.1999,(04)
[8]尹盛,何笑明,王宇,王敬义.冷等离子体冶金中的粒子输运现象研究[J]华中理工大学学报.1999,(03)
[9]赵宁,李兴教,王敬义.电子致冷组件在高精度测量中的应用[J]电测与仪表.1995,(09)
[10]王宇,尹盛,肖成章,何笑明,王敬义.硅材料湿法提纯理论分析及工艺优化[J]太阳能学报.1995,(02)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]赵宁;王敬义;李兴教;王涛;陶星之;辜建辉;郑启光;.大功率CO_2激光器制备太阳级硅材料技术研究[A].第二届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1995-10-23
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