杨晓非
【姓名】 杨晓非
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;一般化学工业;计算机硬件技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁光存储,磁光薄膜,瞬态温度场,匹配,磁光盘,磁记录,SmDyFeCo薄膜,有限单元法,磁光特性,抗腐蚀,表面温度场,光参数,有限元法分析,温测,优化设计,非晶,记录畴,控系统,非晶薄膜,静态,磁光记...
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]王可,李佐宜,谭立国,杨晓非,胡作启.除法式磁光盘信号检测方法的研究[J]中国激光.2000,(08)
[2]王可,谭立国,李佐宜,杨晓非,胡作启.磁光记录薄膜擦写疲劳特性测试系统的研制[J]磁性材料及器件.2000,(02)
[3]王可,李佐宜,胡作启,林更琪,熊锐,杨晓非,李震,王翔,易开军,朱全庆,胡煜.光调制直接重写磁光多层膜的制备及其性能研究[J]信息记录材料.2000,(Z1)
[4]彭子龙,李佐宜,胡煜,谭立国,杨晓非.遗传算法在椭圆偏振测量中的应用[J]光学技术.2000,(03)
[5]易开军,李佐宜,杨晓非,胡作启.磁光静态记录温度场的分布及计算[J]华中理工大学学报.1999,(04)
[6]杨晓非,易开军,熊锐,谭立国,李佐宜.磁光盘静态特性参数的计算机辅助测试[J]电子计算机与外部设备.1999,(04)
[7]胡作启,李佐宜,熊锐,杨晓非.磁控靶溅射刻蚀的模拟研究[J]华中理工大学学报.1997,(11)
[8]熊锐,李佐宜,杨晓非,胡作启,徐瑛.DyFeCo磁光记录膜的制备及其磁光记录特性的厚度效应[J]磁记录材料.1997,(02)
[9]胡作启,李佐宜,熊锐,杨晓非,胡用时.抗恶劣环境光盘的结构和温度特性研究[J]磁记录材料.1997,(03)
[10]熊锐,李佐宜,杨晓非.磁光盘抗腐蚀研究的进展[J]磁记录材料.1997,(04)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]胡作启;李佐宜;熊锐;杨晓非;徐瑛;林更琪;胡用时;.反应磁控溅射Ti-Al-N薄膜的结构及光学特性研究[A].第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1998-10-13
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