刘艳红
【姓名】 刘艳红
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁镜场,SnO_2导电薄膜,增镜场,离子能量分布,等离子体化学气相沉积,磁等离子体化学气相沉积,磁镜比,薄膜,薄膜电阻,导电薄膜,PCVD,SnO2,SnO_2,低温等离子体,PECVD,膜电阻,辉光...
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]刘洪祥,魏合林,刘祖黎,刘艳红,王均震.磁镜场对射频等离子体中离子能量分布的影响[J]物理学报.2000,(09)
[2]刘洪祥,魏合林,刘艳红,刘祖黎.弱磁场对SnO_2薄膜性能的影响[J]功能材料.2001,(04)
[3]刘艳红,刘祖黎.磁镜场对PCVD制备SnO_2导电薄膜的影响[J]传感技术学报.1997,(04)
[4]刘艳红,刘祖黎,姚凯伦.MPCVD 法工艺特性对 SnO_2 薄膜导电性的影响[J]华中理工大学学报.1998,(S2)
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