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蔡长波
【姓名】
蔡长波
【职称】
【研究领域】
一般化学工业;计算机硬件技术;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
磁光双层耦合膜,磁光记录薄膜,FFT,硬盘,偏振特性,薄膜,直接重写,磁记录介质,记录面密度,振动样品磁强计,盘基,光调制,方位角,入射角,克尔角,基本特性,解耦,溅射,面密度,现状及发展,电子科学与...
【工作单位】
华中理工大学
【曾工作单位】
华中理工大学;
【所在地域】
武汉
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共找到4篇
[1]王可,蔡长波,李佐宜,谭立国,王翔,胡煜.
磁光记录薄膜的偏振特性分析
[J]磁性材料及器件.2000,(03)
[2]蔡长波,王翔,于军.
硬盘技术现状及发展趋势
[J]信息记录材料.2000,(Z1)
[3]王翔,蔡长波,王可.
硬盘磁记录介质的现状与发展
[J]材料导报.2000,(11)
[4]朱全庆,谭立国,李震,李佐宜,蔡长波,邱进军.
光调制直接重写磁光双层耦合膜磁基本特性的一种解耦方法
[J]磁记录材料.1999,(03)
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
谭立国
华中理工大学
2
朱全庆
华中理工大学
1
李佐宜
华中理工大学
2
李震
华中理工大学
1
邱进军
华中理工大学
1
王可
华中理工大学
2
胡煜
华中理工大学
1
王翔
华中理工大学
3
于军
华中理工大学
1
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