王志越
【姓名】 王志越
【职称】 研究员;
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 半导体设备研发及管理工作
【发表文献关键词】 MEMS,先进制造技术,MEMS器件,制造技术,发展趋势,刻蚀设备,离子注入机,细间距,等离子刻蚀,集成电路制造,光学光刻,光刻设备,集成电路应用,感器,介质层,集成电路,半导体制造,短沟道效应,低介...
【工作单位】 华中科技大学
【曾工作单位】 华中科技大学;
【所在地域】 北京中国
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[1]王志越.先进制造技术之——IC&MEMS制造技术及其发展趋势(续前)[J]电子工业专用设备.2003,(01)
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