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孙增辉
【姓名】
孙增辉
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
CN薄膜,DLC薄膜,结构,光学增透,射频溅射沉积,类金刚石薄膜,氮化碳薄膜,折射率,N含量,光学增透膜,增透,杂化,红外,增透薄膜,塑性成型,吸收峰,射频磁控,溅射法,吸收带,模具技术,增透膜,透过...
【工作单位】
华中科技大学
【曾工作单位】
华中科技大学;
【所在地域】
武汉
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共找到2篇
[1]乔学亮,孙增辉,程宇航,陈建国,熊锋,王洪水,邓德圣.
N含量对CN薄膜折射率的影响
[J]硅酸盐学报.2003,(05)
[2]孙增辉,乔学亮,程宇航.
一种新型的光学增透膜——DLC及改性DLC薄膜
[J]材料导报.2002,(05)
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华中科技大学
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程宇航
华中科技大学
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熊锋
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