许小红
【姓名】 许小红
【职称】 教授;
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 垂直磁记录,薄膜,沉积速率,介质噪声,氮化铝薄膜,AlN压电薄膜,反应溅射,TbCo薄膜,结构,垂直磁化,应用,制备,退火,织构,AlN薄膜,溅射气压,硬盘,极图,垂直磁记录介质,溅射,Cr合金,溅射...
【工作单位】 华中科技大学
【曾工作单位】 华中科技大学;
【所在地域】 山西武汉
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[1]许小红,李佐宜,段静芳,晋芳,黄致新,林更其.退火对TbCo薄膜结构和磁性能的影响(英文)[J]稀有金属材料与工程.2003,(05)
[2]许小红,武海顺,马文瑾,段静芳,李佐宜.氮化铝薄膜织构的极图法研究[J]无机材料学报.2003,(02)
[3]许小红,武海顺,张富强,张聪杰,李佐宜.反应溅射制备AlN薄膜中沉积速率的研究[J]稀有金属材料与工程.2002,(03)
[4]许小红,武海顺,张富强,段静芳,李佐宜.AlN压电薄膜材料研究进展[J]稀有金属材料与工程.2002,(06)
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