郭志霞
【姓名】 郭志霞
【职称】
【研究领域】 物理学;仪器仪表工业;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光刻,掩模,二元光学元件,二元光学,光刻胶,误差,刻蚀深度,线宽误差,掩模对准,抗蚀剂,误差分析,制作误差,离子束,台阶,深度误差,对准误差,SPIE,套刻,侧向侵蚀,激光器模式,
【工作单位】 华中科技大学
【曾工作单位】 华中科技大学;
【所在地域】 武汉
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[1]李思涛,叶嘉雄,阮玉,徐启阳,郭志霞.二元光学元件的制作及其误差分析[J]光电子技术与信息.2000,(05)
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[1]李思涛;叶嘉雄;阮玉;徐启阳;郭志霞;.二元光学元件的制作及其误差分析[A].湖北省激光学会论文集.2000-06-30
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