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邱进军
【姓名】
邱进军
【职称】
【研究领域】
电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】
Ms~T曲线,石英试杆,直接重写磁光记录薄膜,居里温度,降温法,延迟,软磁材料,矫顽力,玻璃基片,外推方法,磁光记录薄膜,振动样品磁强计,直接重写,插值,磁光薄膜,磁化强度,速测,温度区域,外加磁场,...
【工作单位】
华中科技大学
【曾工作单位】
华中科技大学;
【所在地域】
湖北武汉
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共找到3篇
[1]李震,邱进军,朱全庆,胡用时.
基于降温法的直接重写磁光记录薄膜居里温度的快速测量
[J]磁性材料及器件.2000,(06)
[2]李震,邱进军,朱全庆,胡用时.
玻璃基片和石英试杆对磁光薄膜居里温度测量的影响及其消除方法
[J]磁性材料及器件.2001,(01)
[3]李震,邱进军.
软磁材料矫顽力的高精度测量方法研究
[J]磁性材料及器件.2001,(02)
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
胡用时
华中科技大学
2
李震
华中科技大学
3
朱全庆
华中科技大学
2
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