刘洪祥
【姓名】 刘洪祥
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】 光学薄膜研究
【发表文献关键词】 磁镜场,薄膜,SnO2,磁镜比,PECVD,弱磁场,薄膜性能,轴向分布,薄膜电阻,场强度,SnO_2,放电管,均匀范围,磁镜,辉光放电,电阻,放电室,子体,射频电极,带电粒子,
【工作单位】 华中科技大学
【曾工作单位】 华中科技大学;
【所在地域】 湖北武汉
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[1]刘洪祥,魏合林,刘艳红,刘祖黎.弱磁场对SnO_2薄膜性能的影响[J]功能材料.2001,(06)
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