候廉平
【姓名】 候廉平
【职称】
【研究领域】 无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 划片,氧化铝陶瓷基片,射频CO2激光器,刻槽,热影响区,激光,激光划片,激光陶瓷,陶瓷基板,占空比,射频,扩散半径,脉冲重复频率,陶瓷划片,离焦量,吹气,脉冲频率,CO2激光器,划片机,辅助空气,
【工作单位】 华中科技大学
【曾工作单位】 华中科技大学;
【所在地域】 武汉
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[1]候廉平,陈陪峰,陈清明.射频激光对氧化铝陶瓷基片划片的研究[J]佛山陶瓷.2002,(11)
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