学者知网节

【姓名】	程伟明
【职称】	教授;
【研究领域】	工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】	磁性功能材料的研究
【发表文献关键词】	量子线,InP,应变自组装,InP基,矫顽力,光电子器件,射频磁控溅射法,非晶垂直磁化膜,量子点,剩磁矩形比,InAs,饱和磁化强度,克尔旋转角,溅射功率,射频磁控溅射,SmCo5垂直磁化膜,Cu薄膜...
【工作单位】	华中科技大学
【曾工作单位】	华中科技大学;
【所在地域】	湖北武汉

中国期刊全文数据库 共找到17篇

[1]王海卫;程伟明;罗可;陈进才;张新宇;谢长生;.全光磁记录技术发展与应用探索[J]计算机工程与设计.2026,(03)

[2]程伟明;胡浩;戴亦凡;缪向水;.SmCo_5垂直磁记录薄膜的研究进展[J]信息记录材料.2012,(01)

[3]董凯锋;程晓敏;鄢俊兵;程伟明;缪向水;许小红;王芳;杨晓非;.不同退火时间对[Ag/FePt]_(10)多层膜磁性能和微结构的影响[J]功能材料.2009,(01)

[4]程伟明;李佐宜;晋芳;林更琪;.Nd(Tb,Dy)Co/Cr薄膜的磁性能与磁光性能[J]华中科技大学学报(自然科学版).2006,(04)

[5]程伟明;李佐宜;杨晓非;林更琪;晋芳;孙翔;.NdTbCo/Cr非晶垂直磁化膜的制备及性能[J]稀有金属.2006,(04)

[6]张迪;程伟明;林更其;杨晓非;.磁控溅射制备Cu底层的实验研究[J]材料导报.2007,(04)

[7]董凯锋;程伟明;程晓敏;杨晓非;.L1_0有序FePt磁记录薄膜研究进展[J]信息记录材料.2007,(03)

[8]程伟明;李佐宜;胡珊;杨晓非;董凯锋;林更琪;.溅射工艺条件对TbFeCo/Pt薄膜磁性能的影响[J]功能材料.2007,(09)

[9]晋芳;李佐宜;程伟明;鄢俊兵;林更琪;谢长生;.Cr底层对DyCo薄膜磁性能与结构影响研究[J]功能材料.2007,(12)

[10]晋芳;程伟明;鄢俊兵;董凯锋;.SmDyCo薄膜的磁特性及微磁模拟研究[J]磁性材料及器件.2007,(06)

中国重要会议全文数据库 共找到4篇

[1]程伟明;戴亦凡;薛兴昊;惠亚娟;缪向水;.Al掺杂对SmCo_5/Cu薄膜磁性能的影响[A].第八届中国功能材料及其应用学术会议摘要.2013-08-23

[2]惠亚娟;程伟明;林更琪;缪向水;.锶铁氧体垂直磁化膜的择优取向和机理研究[A].第八届中国功能材料及其应用学术会议摘要.2013-08-23

[3]程伟明;李佐宜;林更琪;杨晓非;缪向水;.Ag底层对TbFeCo薄膜磁性能的影响[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（3）.2007-11-01

[4]张峰;黄致新;王辉;吴斌;杨晓非;程伟明;.溅射工艺及底层对SmCo薄膜磁性能的影响[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（3）.2007-11-01

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