W.S.C.Chang
【姓名】 W.S.C.Chang
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 激光光刻,光致抗蚀剂,抗蚀剂,线条,聚焦激光束,微瓦,曝光特性,转动台,束斑尺寸,华盛顿大学,应用电子,平移速度,小束,激光,激光束,光能量,高斯光束,衰减器,金属化,激光功率,
【工作单位】 华盛顿大学
【曾工作单位】 华盛顿大学;
【所在地域】
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[1]R.A.Beker,B.L.Sopori,W.S.C.Chang,龙自强.聚焦激光光刻系统[J]压电与声光.1979,(01)
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