田小峰
【姓名】 田小峰
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 SiOxNy薄膜,电子注入,等离子体增强化学气相淀积,俄歇电子能谱,电学特性,SiO_x,富氮,红外光谱,SiOx,注入特性,气压,热电子注入,蒲生,膜电学参数,俄歇,注入性能,微观组分,华南理工大学...
【工作单位】 华南理工大学
【曾工作单位】 华南理工大学;
【所在地域】 广州
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[1]张昊,陈蒲生,田小峰,冯文修,刘小阳.纳米级富氮SiO_xN_y薄膜的电子注入损伤研究[J]半导体技术.2000,(01)
[2]陈蒲生,张昊,冯文修,田小峰,刘小阳,曾绍鸿.富氮SiO_xN_y膜的电子注入特性[J]华南理工大学学报(自然科学版).2001,(02)
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