胡耀志
【姓名】 胡耀志
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 射频放电,阻抗,等离子体,等效电路,干法刻蚀,射频等离子体,电特性,射频功率,等效电,电极面积,鞘层,离子轰击,放电阻抗,匹配网络,反应器,自偏压,电阻,射频发生器,直流电位,等离子体阻抗,
【工作单位】 华南理工大学
【曾工作单位】 华南理工大学;
【所在地域】 广州
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[1]黄光周,于继荣,胡耀志.干法刻蚀中射频等离子体电特性的研究[J]真空科学与技术.1996,(06)
[2]江跃宗;胡耀志;朱新奇;.SnO_2超微粒薄膜的制备及气敏性研究[J]仪表材料.1990,(04)
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