周江云
【姓名】 周江云
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 等离子刻蚀,硅尖锥,金刚石薄膜,场发射阵列,反应离子刻蚀,电子场发射性能,进展,金刚石粉末,界面,场发射,非晶金刚石薄膜,SP2键,尖锥,接触势垒,真空磁过滤弧沉积,电子发射性能,电子场发射,非晶,电...
【工作单位】 华东师范大学
【曾工作单位】 华东师范大学;
【所在地域】 上海
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[1]周江云,徐静芳,茅东升,柳襄怀.金刚石粉末淀积层的场发射特性研究[J]发光学报.2000,(04)
[2]周江云,李琼,徐静芳,茅东升,柳襄怀.SP~2键含量对非晶金刚石膜电子场发射性能的影响[J]华东师范大学学报(自然科学版).2000,(02)
[3]茅东升,赵俊,李炜,王曦,柳襄怀,诸玉坤,范忠,周江云,李琼,徐静芳.界面过渡层对非晶金刚石薄膜电子场发射性能的影响[J]中国科学E辑:技术科学.1999,(06)
[4]范忠，李琼，刘新福，周江云，徐静芳.等离子刻蚀制造硅场发射阵列[J]微细加工技术.1998,(01)
[5]茅东升,赵俊,李炜,王曦,柳襄怀,诸玉坤,周江云,范忠,李琼,徐静芳.金刚石薄膜电子场发射研究进展[J]材料导报.1998,(06)
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