候峰
【姓名】 候峰
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金刚石膜生长,热丝化学气相沉积,参数优化,相图,灯丝温度,气压,热丝法,摩尔分数,C2H2,微观机理,氢原子,碳源浓度,生长速率,热丝CVD法,气相化学,低压化学气相沉积,前驱基团,混合物,金刚石生长...
【工作单位】 华东理工大学
【曾工作单位】 华东理工大学;
【所在地域】 上海
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[1]戚学贵,陈则韶,徐宏,王学生,候峰,谭晓勇.热丝法沉积金刚石膜工艺参数优化的微观机理与预测[J]真空科学与技术学报.2005,(03)
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