学者知网节

【姓名】	杨伟毅
【职称】
【研究领域】	工业通用技术及设备;无线电电子学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】	蒸发速率,真空蒸发法,毛细管,光阴极,薄膜,光电阴极,表面分析,制备工艺,真空紫外辐射,长波,膜料,光电发射,特性研究,扫描电子显微镜,DLC膜,晶体,类金刚石膜,远紫外,本征发射,化学反应,光电灵敏...
【工作单位】	华东工学院
【曾工作单位】	华东工学院;
【所在地域】	南京

中国期刊全文数据库 共找到6篇

[1]徐登高,刘元震,杨伟毅.CsI/Ni/LiF半透明真空紫外光阴极的分析研究[J]真空科学与技术.1989,(06)

[2]杨伟毅,徐登高,王广林,高频,刘元震.CsI/Ni薄膜系统的化学深度剖面分布[J]南京理工大学学报(自然科学版).1991,(03)

[3]刘元震,杨伟毅,常本康.远紫外CsI/Au/Lif光阴极特性研究[J]真空科学与技术.1991,(05)

[4]杨伟毅,王广林,高频,夏长虹,邓金祥.GaAs表面经UV/O_3处理后的XPS分析[J]南京理工大学学报(自然科学版).1992,(03)

[5]杨伟毅.类金刚石膜的电子能谱(XAES,XPS)研究[J]真空科学与技术.1992,(06)

[6]杨伟毅.射频等离子体沉积类金刚石膜微结构的表征[J]半导体学报.1993,(01)

中国重要会议全文数据库 共找到1篇

[1]杨伟毅;汪贵华;高频;.含铜非晶碳膜的研究[A].首届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1992-10-26

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