我的机构馆
退出
数字图书馆首页
CNKI首页
浏览器下载
帮助
温占秀
【姓名】
温占秀
【职称】
【研究领域】
一般化学工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】
光化学活性,包覆,重铬酸根,锐钛型,二氧化钛,TiO_2,二氧化硅,砂磨,性能研究,团聚体,正硅酸,还原率,光化学,表面羟基,包覆层,粒子,活性点,熟化,核生成,包覆膜,
【工作单位】
华东理工大学
【曾工作单位】
华东理工大学;
【所在地域】
学术成果产出统计表
今年新增
/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
第一作者篇数
总被引频次
总下载频次
0
/
1
1
1
0
10
194
文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
浏览趋势(该学者统计年度当年发文总浏览频次)
下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]高丕英,温占秀,方图南,于遵宏,古宏晨.
锐钛型TiO_2性能研究 Ⅱ.锐钛型TiO_2的光化学活性封闭及其表征
[J]华东理工大学学报.1999,(03)
更多
研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
龚天铧
华东理工大学
包华辉
中国石油大连润滑油研发中心
黄云
上海正大日用化学品有限公司
更多
合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
于遵宏
华东理工大学
1
高丕英
华东理工大学
1
方图南
华东理工大学
1
古宏晨
华东理工大学
1
更多