温占秀
【姓名】 温占秀
【职称】
【研究领域】 一般化学工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光化学活性,包覆,重铬酸根,锐钛型,二氧化钛,TiO_2,二氧化硅,砂磨,性能研究,团聚体,正硅酸,还原率,光化学,表面羟基,包覆层,粒子,活性点,熟化,核生成,包覆膜,
【工作单位】 华东理工大学
【曾工作单位】 华东理工大学;
【所在地域】
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[1]高丕英,温占秀,方图南,于遵宏,古宏晨.锐钛型TiO_2性能研究 Ⅱ.锐钛型TiO_2的光化学活性封闭及其表征[J]华东理工大学学报.1999,(03)
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