常米
【姓名】 常米
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 碲镉汞,液相外延,熔体生长,母液,晶体生长,相平衡,垂直区熔法,组分控制,外延膜,多晶料,温度梯度,生长速率,晶体,组分,气区,溶剂,生长温度,温区,汞蒸汽,输运,生长过程,分波,降温速率,晶体生长过...
【工作单位】 华北光电技术研究所
【曾工作单位】 华北光电技术研究所;
【所在地域】 北京
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[1]王经纬;巩锋;刘铭;强宇;常米;周立庆;.Si基碲镉汞分子束外延工艺优化研究[J]激光与红外.2012,(10)
[2]周立庆;刘铭;巩锋;董瑞清;折伟林;常米;.3英寸CdTe/Si复合衬底外延技术研究[J]激光与红外.2011,(05)
[3]巩锋;周立庆;王经纬;刘铭;常米;强宇;.3英寸Si基碲镉汞分子束外延工艺研究[J]激光与红外.2012,(07)
[4]刘铭;周立庆;巩锋;常米;王经纬;王丛;.CdTe/Si复合衬底Ex-situ退火研究[J]激光与红外.2012,(08)
[5]王金义,常米,陈万熙,周立庆,朱建慧,吴人齐.相平衡形成母液法生长碲镉汞液相外延膜[J]半导体杂志.1999,(04)
[6]刘克岳，郎维和，王金义，张学仁，李美荣，常米，赵宏.Te溶剂垂直区熔法生长φ20MCT晶体组分控制研究[J]红外与激光工程.1996,(06)
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