田风军
【姓名】 田风军
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 薄膜材料,锐钛矿相,射频磁控溅射,光催化活性,溅射制备,特性研究,掺银,交流磁控溅射,硅衬底,禁带宽度,热处理温度,有效面积,薄膜厚度,晶粒间,重点实验室,扫描电镜图,吸收光谱,薄膜表面,反应气体,表...
【工作单位】 黑龙江大学
【曾工作单位】 黑龙江大学;
【所在地域】 哈尔滨
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[1]邱成军,曹茂盛,张辉军,刘红梅,田风军,刘鑫.磁控溅射制备掺银TiO_2薄膜的光催化特性研究[J]材料工程.2005,(10)
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