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檀柏梅
【姓名】
檀柏梅
【职称】
教授;
【研究领域】
无线电电子学;金属学及金属工艺;材料科学;
【研究方向】
微电子技术与材料的研究
【发表文献关键词】
清洗,兆声清洗,抛光液,渗透,硅片,分散,表面活性剂,阻挡层,多层布线,化学机械抛光,清洗技术,抛光速率,子工艺,ULSI,微电子,研磨料,CMP抛光液,硅溶胶,微电,激光清洗,半导体硅材料,擦洗法,...
【工作单位】
河北工业大学
【曾工作单位】
河北工业大学;
【所在地域】
天津
学术成果产出统计表
今年新增
/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
第一作者篇数
总被引频次
总下载频次
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6
644
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文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
浏览趋势(该学者统计年度当年发文总浏览频次)
下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到107篇
[1]牛新环;周佳凯;石芸慧;王如;檀柏梅;高宝红;.
专创融合:破解集成电路产业人才瓶颈的创新路径
[J]科技创业月刊.2026,(02)
[2]薛俊杰;李思敏;袁薇;檀柏梅;牛新环;沈慧;.
二苯基次膦酸表面改性的高悬浮性二氧化铈抛光液
[J]广东化工.2025,(14)
[3]王方圆;宋国强;檀柏梅;杜浩毓;王晓龙;.
阴离子表面活性剂及复配对阻挡层抛光液性能的影响
[J]润滑与密封.2023,(12)
[4]马腾达;冯晓宇;宁提;王慧;李浩冉;徐港;檀柏梅;李兰兰;.
InSb晶片表面有机物沾污清洗的分子动力学研究
[J]红外.2023,(12)
[5]王如;石芸慧;牛新环;檀柏梅;高宝红;.
基于建构主义理论的创业基础教学设计
[J]创新创业理论研究与实践.2023,(24)
[6]王晓龙;高鹏程;檀柏梅;杜浩毓;王方圆;.
切削液对金刚石线锯切割β-Ga_2O_3晶片表面质量的影响
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[7]石芸慧;牛新环;檀柏梅;王如;高宝红;.
基于科研平台的专创融合机制构建研究
[J]科技创业月刊.2022,(10)
[8]王歌;杨帆;王方圆;杜浩毓;王晓龙;檀柏梅;.
氧化镓基肖特基势垒二极管的研究进展
[J]半导体技术.2022,(12)
[9]闫妹;檀柏梅;王亚珍;李伟;纪金伯;.
CeO_2磨料在介质化学机械抛光及后清洗中应用的研究进展
[J]稀土.2023,(03)
[10]纪金伯;张男男;檀柏梅;张师浩;闫妹;李伟;.
集成电路钴化学机械抛光缺陷控制的研究进展
[J]润滑与密封.2023,(07)
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中国重要会议全文数据库
共找到8篇
[1]牛新环;王胜利;檀柏梅;刘玉岭;.
pH值对ULSI硅衬底抛光速率的影响
[A].2006年全国功能材料学术年会专辑.2006-07-01
[2]刘玉岭;檀柏梅;李薇薇;.
ULSI中CMP纳米磨料制备技术的研究
[A].电子专用化学品高新技术与市场研讨会论文集.2004-01-01
[3]檀柏梅;刘玉岭;赵之雯;郝子宇;周建伟;王胜利;.
专用复合型表面活性剂在微电子技术中的应用
[A].电子专用化学品高新技术与市场研讨会论文集.2004-01-01
[4]牛新环;刘玉岭;檀柏梅;马振国;.
蓝宝石衬底化学机械抛光的机理研究
[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(10).2007-11-01
[5]檀柏梅;牛新环;时慧玲;刘玉岭;崔春翔;.
纳米磨料在二氧化硅介质CMP中的作用分析
[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(2).2007-11-01
[6]牛新环;宗思邈;檀柏梅;刘玉岭;.
温度对GaN生长用蓝宝石衬底化学机械抛光去除速率的影响(英文)
[A].2008全国功能材料科技与产业高层论坛论文集.2008-10-01
[7]刘玉岭;檀柏梅;牛新环;赵海涛;.
蓝宝石CMP工艺中粗糙度的控制技术(英文)
[A].2008全国功能材料科技与产业高层论坛论文集.2008-10-01
[8]檀柏梅;牛新环;周建伟;刘玉岭;李晖;.
ULSI铜互连钽阻挡层的CMP浆料研究(英文)
[A].2008全国功能材料科技与产业高层论坛论文集.2008-10-01
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