刘承霖
【姓名】 刘承霖
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅片,研磨液,应力,锑化铟,粗糙度,化学机械抛光,抛光液,划伤,表面活性剂,表面状态,铌酸锂晶体,pH值,铌酸锂晶片,螯合剂,机械作用,抛光速率,碱性抛光液,抛光片,表面张力,有机碱,半导体材料,活性...
【工作单位】 河北工业大学
【曾工作单位】 河北工业大学;
【所在地域】 天津
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[1]张伟;周建伟;刘玉岭;刘承霖;.硅片研磨表面状态的改善和研磨液的改进[J]半导体技术.2006,(10)
[2]刘承霖;刘玉岭;张伟;武晓玲;贾英茜;.InSb半导体材料的抛光液研究[J]半导体技术.2006,(12)
[3]刘承霖;刘玉岭;贾英茜;张伟;.InSb抛光片表面粗糙度分析[J]微纳电子技术.2006,(12)
[4]武晓玲;刘玉岭;王胜利;刘长宇;刘承霖;.pH值对铌酸锂晶片抛光速率及抛光表面的影响[J]半导体技术.2007,(01)
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