武晓玲
【姓名】 武晓玲
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;材料科学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 化学机械抛光,硼酸锂铯,潮解,有机溶剂,抛光液,粗糙度,锑化铟,划伤,铌酸锂晶体,pH值,铌酸锂晶片,晶体开裂,碱性抛光液,表面质量,抛光技术,化学作用,抛光速率,加工过程,硬盘,磷化镍,钨插塞,钝化...
【工作单位】 河北工业大学
【曾工作单位】 河北工业大学;
【所在地域】 天津
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[2]刘承霖;刘玉岭;张伟;武晓玲;贾英茜;.InSb半导体材料的抛光液研究[J]半导体技术.2006,(12)
[3]武晓玲;刘玉岭;王胜利;刘长宇;刘承霖;.pH值对铌酸锂晶片抛光速率及抛光表面的影响[J]半导体技术.2007,(01)
[4]刘长宇;刘玉岭;武晓玲;孙鸣;张伟;.用于硬盘NiP基片CMP的一种碱性SiO_2抛光液[J]微纳电子技术.2007,(01)
[5]贾英茜;刘玉岭;武晓玲;张伟;.钨插塞在化学机械抛光中的化学作用机理研究[J]微电子学.2007,(01)
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[1]王胜利;武晓玲;刘玉岭;贾小欣;.铌酸锂晶片CMP中工艺参数对去除率的影响[A].2006年全国功能材料学术年会专辑.2006-07-01
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