牛新环
【姓名】 牛新环
【职称】 教授;
【研究领域】 无线电电子学;金属学及金属工艺;一般化学工业;
【研究方向】 微电子技术与材料
【发表文献关键词】 硅锗单晶,直拉法,双指数模型,太阳电池,分凝系数,杂质分布,I—V曲线,晶体生长,单晶,CZSi,氧碳含量,体单晶,计算机模拟,CZ硅,硅锗,CZ法,FTIR,分布形式,谱图,压力传感器,SOI,灵敏...
【工作单位】 河北工业大学
【曾工作单位】 河北工业大学;
【所在地域】 天津
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中国期刊全文数据库    共找到106篇
[1]牛新环;周佳凯;石芸慧;王如;檀柏梅;高宝红;.专创融合：破解集成电路产业人才瓶颈的创新路径[J]科技创业月刊.2026,(02)
[2]王佳欢;高宝红;张馨心;牛新环;张冬妍;.表面活性剂在集成电路互连CMP中的应用进展[J]半导体技术.2026,(05)
[3]武峥;牛新环;何潮;董常鑫;李鑫杰;胡槟;李佳辉;.集成电路CMP中金属腐蚀复配缓蚀剂的研究进展[J]半导体技术.2025,(01)
[4]薛俊杰;李思敏;袁薇;檀柏梅;牛新环;沈慧;.二苯基次膦酸表面改性的高悬浮性二氧化铈抛光液[J]广东化工.2025,(14)
[5]李佳辉;牛新环;李鑫杰;何潮;董常鑫;胡槟;武峥;.去除速率理论模型在化学机械抛光中的研究进展[J]应用化工.2025,(10)
[6]邹毅达;牛新环;闫晗;屈明慧;罗付;刘江皓;占妮;周建伟;.络合剂在铜CMP中的研究进展及发展趋势[J]应用化工.2023,(12)
[7]占妮;牛新环;闫晗;罗付;屈明慧;刘江皓;邹毅达;周建伟;.表面活性剂在集成电路多层布线CMP工艺中的应用研究[J]润滑与密封.2024,(01)
[8]王如;石芸慧;牛新环;檀柏梅;高宝红;.基于建构主义理论的创业基础教学设计[J]创新创业理论研究与实践.2023,(24)
[9]董常鑫;牛新环;刘江皓;占妮;邹毅达;何潮;李鑫杰;.pH调节剂在CMP工艺中的应用研究进展[J]半导体技术.2024,(01)
[10]何潮;牛新环;刘江皓;占妮;邹毅达;董常鑫;李鑫杰;.半导体材料CMP过程中磨料的研究进展[J]微纳电子技术.2024,(01)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]牛新环.掺锗CZSi单晶光学性质及锗分布均匀性的研究[D].河北工业大学.2004
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中国重要会议全文数据库    共找到7篇
[1]牛新环;张维连;吕海涛;蒋中伟;王雅欣;.掺锗CZSi禁带宽度的变化[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ.2004-09-01
[2]牛新环;王胜利;檀柏梅;刘玉岭;.pH值对ULSI硅衬底抛光速率的影响[A].2006年全国功能材料学术年会专辑.2006-07-01
[3]牛新环;刘玉岭;檀柏梅;马振国;.蓝宝石衬底化学机械抛光的机理研究[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（10）.2007-11-01
[4]檀柏梅;牛新环;时慧玲;刘玉岭;崔春翔;.纳米磨料在二氧化硅介质CMP中的作用分析[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（2）.2007-11-01
[5]牛新环;宗思邈;檀柏梅;刘玉岭;.温度对GaN生长用蓝宝石衬底化学机械抛光去除速率的影响(英文)[A].2008全国功能材料科技与产业高层论坛论文集.2008-10-01
[6]刘玉岭;檀柏梅;牛新环;赵海涛;.蓝宝石CMP工艺中粗糙度的控制技术(英文)[A].2008全国功能材料科技与产业高层论坛论文集.2008-10-01
[7]檀柏梅;牛新环;周建伟;刘玉岭;李晖;.ULSI铜互连钽阻挡层的CMP浆料研究(英文)[A].2008全国功能材料科技与产业高层论坛论文集.2008-10-01
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