学者知网节

【姓名】	何彦刚
【职称】
【研究领域】	无线电电子学;有机化工;一般化学工业;
【研究方向】	冷等离子体分解、合成及聚合方面的研究工
【发表文献关键词】	甲醛,马来酸酐,冷等离子体,光催化法,等离子体法,等离子体引发聚合,放电时间,反应室温度变化,2-甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵,光催化,放电功率,等离子体引发,阳离子聚电解质,线性,丙烯酰胺,氯化2-...
【工作单位】	河北工业大学
【曾工作单位】	河北工业大学;
【所在地域】	天津

中国期刊全文数据库 共找到31篇

[1]李相辉;张祥龙;孟妮;聂申奥;邱宇轩;何彦刚;.聚甲基丙烯酸对STI CMP中SiO_2和Si_3N_4去除速率选择比的影响[J]半导体技术.2024,(02)

[2]孟妮;张祥龙;李相辉;谢顺帆;邱宇轩;聂申奥;何彦刚;.BTA与TT-LYK对铜CMP缓蚀效果和协同效应研究[J]润滑与密封.2024,(02)

[3]刘彬;王如;何彦刚;郑晴平;王帅;赵群;谢顺帆;.硅通孔阻挡层抛光液的研究现状和发展趋势[J]半导体技术.2022,(06)

[4]谢顺帆;赵群;梅旭鲲;杨露瑶;何彦刚;.微LED显示基板CMP过程中铜/钛/TEOS的去除速率选择比优化[J]半导体技术.2022,(07)

[5]杜义琛;周建伟;王辰伟;何彦刚;张文倩;季军;.盐酸胍对钌在含双氧水的二氧化硅水溶胶中化学机械抛光的影响[J]电镀与涂饰.2017,(17)

[6]胡轶;何彦刚;刘玉岭;.FA/O阻挡层抛光液在铜布线平坦化中的应用[J]半导体技术.2018,(10)

[7]胡轶;张凯;何彦刚;刘玉岭;.阻挡层抛光液中助溶剂和H_2O_2对铜残留缺陷的影响[J]半导体技术.2018,(11)

[9]张金;刘玉岭;闫辰奇;何彦刚;高宝红;.Defectivity control of aluminum chemical mechanical planarization in replacement metal gate process of MOSFET[J]Journal of Semiconductors.2016,(04)

[10]李思诺;周宏勇;何彦刚;刘兵;刘建伟;王家喜;.改性壳聚糖及其膜材料的制备与表征[J]高分子材料科学与工程.2014,(12)

中国优秀硕士学位论文全文数据库 共找到1篇

中国重要会议全文数据库 共找到2篇

[1]张广清;黎钢;金付强;何彦刚;.等离子体引发马来酸酐水溶液聚合的新工艺研究[A].第九届全国化学工艺学术年会论文集.2005-04-01

[2]任凤霞;黎钢;崔迎军;杨芳;何彦刚;.分子筛催化萘酚的长链烷基化反应[A].分子筛催化与纳米技术——分子筛协作组2006年学术年会论文集.2006-10-01

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