朱海丰
【姓名】 朱海丰
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氢化非晶氮化硅,反应气压,激光退火,螺旋波,表面光电压,非晶氮化硅薄膜,光致发光,晶化,表面光电压谱,量子阱效应,发光特性,结构特性,纳米硅,量子阱,碳化硅,等离子体化学,SiC薄膜,晶化特性,反应气...
【工作单位】 河北大学
【曾工作单位】 河北大学;
【所在地域】 河北保定
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[1]于威,何杰,孙运涛,朱海丰,韩理,傅广生.碳化硅薄膜脉冲激光晶化特性研究[J]物理学报.2004,(06)
[2]朱海丰,杨彦斌,路万兵,于威.反应气压对氢化非晶氮化硅薄膜的发光特性影响[J]河北大学学报(自然科学版).2004,(03)
[3]王华英,朱海丰,何杰,李丽宏.半导体光电特性的表面光电压谱表征[J]河北建筑科技学院学报.2004,(02)
[4]于威,朱海丰,王保柱,韩理,傅广生.螺旋波等离子体沉积纳米硅薄膜结构特性[J]功能材料与器件学报.2004,(02)
[5]王华英,朱海丰,冯云鹏.量子阱效应及其光电性质的表面光电压谱表征[J]河北建筑科技学院学报.2004,(03)
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