侯海虹
【姓名】 侯海虹
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 螺旋波等离子体,氮化硅薄膜,化学气相沉积,硅薄膜,螺旋波,光学带隙,等离子体增强,氮化,光学特性,氮化硅,非晶,氢化,物理科学,技术学院,河北大学,SiN薄膜,H原子,吸收峰,键合结构,活性粒子,原子...
【工作单位】 河北大学
【曾工作单位】 河北大学;
【所在地域】 河北保定
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[1]于威,刘丽辉,侯海虹,丁学成,韩理,傅广生.螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜[J]物理学报.2003,(03)
[2]于威,侯海虹,王保柱,刘丽辉,傅广生.氢化非晶氮化硅薄膜的光学特性研究[J]河北大学学报(自然科学版).2003,(03)
[3]于威,侯海虹,何杰,王华英,傅广生.HWP-CVD氮化硅薄膜的结构和光学特性[J]无机材料学报.2004,(04)
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