王和庆
【姓名】 王和庆
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 浅结,激光退火,激光掺杂,激光,离子注入,电激活,微波二极管,激光照射,欧姆接触,表面浓度,热扩散,离子辐射损伤,硅片,表面掺杂浓度,析出物,涂层,辐射损伤,玻璃激光器,晶格损伤,浓度扩散,集成电路,...
【工作单位】 合肥工业大学
【曾工作单位】 合肥工业大学;
【所在地域】
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[1]孙金坛,程国文,张光荣,王和庆,王爱平,张昌林.激光对硅片掺杂和退火的研究[J]激光.1982,(05)
[2]孙金坛;程国义;张光荣;王和庆;王爱平;张昌林;.激光掺杂和退火的研究[J]应用激光.1982,(04)
[3]孙金坛,程国义,王和庆,张光荣,王爱平,张昌林.离子注入片的激光背面退火[J]半导体技术.1983,(05)
[4]孙金坛,程国义,王和庆.射频离子辐射损伤的激光退火[J]激光杂志.1985,(06)
[5]王和庆,孙金坛,王爱平.激光外延是制造p-n浅结的一种好方法[J]中国激光.1986,(09)
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